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噴砂機工藝涂層處理

文章出處:本站 編輯:拋丸機發表時間:2022-08-01 16:16:36

噴砂機VD 是通過氣相物質的化學反應在基材表面沉積固態薄膜的一種工藝方法。CVD 技術發展較早,在上 世紀 60 年代已應用于硬質合金刀具的涂層處理,并且在硬質合金可轉位刀具上得到了較為廣泛的應用。在 CVD 工藝中,氣相沉積所需要金屬源的制備相對容易,可進行 TiBN、TiB2、TiN、TiC、TiCN、 、Al2O3 等單層及多元多層復合涂層,其涂層與基體結合強度較高,薄膜的厚度達 7~9μ m,CVD 涂層具有較好的 耐磨性。據統計,美國在八十年代中后期有 85%的硬質合金工具采用了涂層處理,其中 CVD 涂層占 99%; 在九十年代的中期,CVD 涂層硬質合金刀具仍占到了 80%以上。CVD 涂層技術擁有許多的優點:1.涂層源 的制備比較容易。2.鍍膜的均勻性比較好。3.成膜粒子的能量非常低,因此鍍膜的內應力很低。4.能夠得到 比較厚的鍍膜。5.鍍膜的耐磨性非常好。但是 CVD 涂層技術也有一些缺陷:

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1 噴砂機工藝的處理溫度較高,刀具 材料抗彎強度會產生下降。2.CVD 涂層技術排放的廢氣可造成嚴重的環境污染。因此,從九十年代中期以 來,高溫 CVD 涂層技術的發展、應用受到了制約。八十年代末期,Kruup Widia 研發的低溫化學氣相沉積 技術(PCVD)已經可以實現應用,該技術的工藝處理溫度已下降至 450℃至 650℃,能夠有效的抑制η 相 產生,能夠進行 TiN、TiCN、TiC 等金屬涂層,應用于螺紋刀具、銑刀、鉆頭等,但是 PCVD 技術在刀具 涂層領域內的應用目前仍然不是十分廣泛。 引起 CVD 涂層技術出現實質性突破的是 80 年代末期產生的 MT—CVD 技術(中溫化學氣相沉積技術) , 該技術的機理與高溫 CVD 涂層技術是相同的,但它的涂覆溫度僅為 700℃到 900℃,而且正向著更低的溫 度和更高的真空度方向發展。MT—CVD 涂層技術突出的優點有沉積的速度快、涂層的厚度均勻、涂層的 附著力較強、內部的殘余應力較小。但 MT—CVD 涂層技術的首要缺點是產生嚴重的環境污染問題,其次, 它的涂層內部產生拉應力,容易產生裂紋。新型的 MT-CVD 技術是將含 C、N 的有機物乙腈(CH3CN)為 主要的反應氣體混合 TiCL4、H2、N2 在 700℃到 900℃溫度下產生分解、發生化學反應,產生 TiCN 的一 種新的方法,該方法得到的涂層為致密纖維狀結晶形態,涂層的厚度可達到 8-10μ m。該涂層結構為為致 密纖維狀結晶, 因此擁有很高的耐磨損性, 很高的抗熱震性和韌性。 再通過高溫化學氣相沉積技術 (HT-CVD 技術)在表層鍍層上沉積 Al2O3 和 TiN 等抗氧化性能好、高溫性能好、與加工材料的親和力較小的材料。 高溫化學氣相沉積技術適用于高速度、高溫度、大負荷的干式切削條件,刀具的壽命比一般的涂層刀片延 長了一倍。 我國 CVD 涂層技術的研究開始于七十年代初, 由于該項技術的專用性強, 并于八十年代中期達到實用化, 并與國際 噴砂機CVD 工藝技術水平相當;隨后十多年里國內和國外的發展類似,比較緩慢;我國 PCVD 技術的 研究開始于九十年代初,該技術目前主要用于模具涂層,在刀具領域內的應用,還不是十分廣泛。從總體 上講,我國的 CVD 技術與國際先進水平保持同步。


本文來源青島華盛泰拋丸機:http://m.bdxinghe.cn/penshajiyuanli/5855.html
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